半导体设备材料展：太阳能光伏最热
（来源：中国电子报）
在半导体市场不好的情况下，各公司都在开拓新应用领域，太阳能无疑是最大的亮点。展会上我们发现，无论设备、材料厂商还是测试系统提供商都在往太阳能方面转。SOLORCONChina2009（太阳能光伏展）作为SEMICONChina2009的太阳能主题馆，今年首次亮相，太阳能主题馆通过光伏设备和材料、光伏电池、光伏产品和组件以及光伏工程和系统等集中展示了整个光伏产业链。同期举行的研讨会也汇聚了众多业内知名人士。
空气化工产品(中国)投资有限公司总经理、SEMI中国太阳能光伏顾问委员会委员段定夫在接受记者采访时表示，亚洲在这次全球金融危机的严重冲击下，遭遇了前所未有的寒冬，半导体产业正经历艰苦的时期，但在新兴市场如光伏和LED(发光二极管)产业的带动下，中国政府对光伏产业的关注，将使中国电子产业得以持续发展。“半导体产业处于整个电子行业产业链的前端，因此也较其他产业能更早预测电子行业的整体走势及变化。透过与半导体客户的长期伙伴关系和对他们业务的深入了解，我们就能够有效、准确地预测不断变化的电子市场的发展趋势，不断评估及调整投资策略。例如，随着全球对可再生能源需求的日益提升，我们就抓住了新兴市场如太阳能光伏和LED发光二极管等产业的发展机遇，加大投资力度并取得理想成绩，这些成功充分证明了，在面对个别行业不景气所产生的市场波动时，只有贴近市场需要、产品结构多元化的企业，才能及时地平衡资源，调整策略，分散风险。”段定夫表示。
台湾致茂电子股份有限公司在去年的SEMICON展会期间推出的是半导体测试系统，而今年他们重点推介的产品是太阳能测试设备。致茂电子股份有限公司机电整合中心副总经理蔡译庆介绍说，今年太阳能光伏市场火热，致茂特别针对太阳能市场推出了一系列测试设备，分别对太阳能电池片的色差以及质量缺陷进行控制。
另外太阳能电池及模组生产厂如江西赛维LDK、林洋新能源、新奥等也悉数到场，新奥光伏能源有限公司使用应用材料公司SunFab薄膜生产线推出中国第一块5.7平方米双结太阳能模板，成为太阳能主题馆的一大看点。
光刻技术面向下一节点
虽然半导体产业受国际金融危机的影响急剧下滑，但并不妨碍半导体技术不断向前发展。SEMICONChina每年都会选取不同的半导体技术革新亮点，揭示其发展历程和前景。“光刻”作为推动半导体技术发展的原动力之一，被聚焦为SEMICONChina 2009的亮点。
众所周知，电子产品发展的主流和不可阻挡的趋势是“轻、薄、短、小”，这给光刻技术提出的技术方向是不断提高其分辨率，即提高可以完成转印图形或者加工图形的最小间距或者宽度，以满足产业发展的需求。光刻工艺在整个工艺过程中的多次性使得光刻技术的稳定性、可靠性和工艺成品率对产品的质量、良率和成本有着重要的影响，光刻技术的纷争主要是厂家可以提供给用户什么样分辨率和产能的设备及其相关的技术。
上海微电子装备有限公司总工程师程建瑞认为，随着45nm节点光刻技术的尘埃落定，32nm及以下节点的光刻技术选择成为研究的热点。在32nm节点使用193nm侵入式光刻机，并同时结合双重曝光技术已基本成为定局。22nm节点的主流光刻机的技术路线仍然不明朗，候选技术主要有极紫外光刻(EUV)、高折射率193nm侵入式光刻、无掩膜光刻等。东电电子(上海)有限公司总裁陈捷认为，对于更先进的22nm节点来说，极紫外光刻技术是发展的关键。
在今年的展会上，EVG公司展出了其全新的光刻曝光系统和新型测试设备，产品适用于三维集成电路和先进封装半导体、微电子、纳米设备的生产。EVG首席技术官PaulLinder指出，生产工艺中不精确的光刻对准会影响到结构的完整性，最终影响到设备的产量和增加生产成本。EVGNT新一代的光刻和测试系统极大地增加了对准精度，该系列包括了光刻机、晶圆对晶圆接合曝光和对准检测设备。
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